ESI Transmetteurs & Transducteurs de pression

ESI Technology Ltd conçoit et fabrique des transducteurs et transmetteurs de pression pour l'aérospatial, la défense, l'Oil & Gas, les applications sous-marines, le médical, l'automobile, la marine, le process et plus généralement pour toute application industrielle. 75% de la production est exportée vers plus de 45 pays.

La société a été créée en 1984, et n'a cessé de croître pour devenir un fournisseur mondialement renommé de transducteurs et transmetteurs de pression. Les premiers succès sont venus de la conception de solutions pour des applications militaires et aérospatiales ardues. Plus récemment, la qualité et les performances exceptionnelles de la technologie de capteurs SoS (Silicon-on-Sapphire) ont assuré la position de leader d'ESI dans le secteur de la mesure de pression. La gamme complète de transmetteurs et transducteurs de pression intègre cette technologie, ainsi que des traitements numériques du signal. Tous les produits sont rigoureusement testés selon les procédures ISO 9001 et Mil-I-45208, et sont conformes aux exigences CE. Les certifications EX, IECEx et DNV GL sont également disponibles.

En 2009, SUCO Robert Scheuffele GmbH & Co. KG fait l'acquisition d'ESI Technology Ltd. En partageant des valeurs et des méthodes commerciales similaires, cette croissance externe résultait d'une logique parfaite de complémentarité tout en renforçant le portefeuille de produits des deux sociétés.

L'unique usine, basée à Wrexham au Royaume-Uni, permet un contrôle total de tout le process de fabrication. Des investissements très importants ont été réalisés pour le développement des gammes de produits, afin de pérenniser la société en position d'industrie de pointe.

À propos de la technologie Silicon-on-Sapphire (SoS)
ESI utilise la technologie Silicon-on-Sapphire (SoS) pour ses capteurs sur une grande partie de sa gamme de produits de haute qualité. Quelle est cette technologie, et pourquoi est-elle utilisée ?

La combinaison du silicium et du saphir permet d'obtenir un capteur de mesure très résistant. En recouvrant la surface du saphir, le silicium devient extrêmement stable en ne présentant pratiquement aucune hystérésis. Grâce à ses propriétés d'isolation exceptionnelles, le saphir protège la jauge de contrainte du rayonnement électromagnétique et permet au capteur de fonctionner sur une très large plage de températures sans perte de performances. Il peut supporter des surpressions élevées et offre une excellente résistance à la corrosion. L'excellente élasticité du saphir garantit une répétabilité élevée, caractéristique hautement souhaitable pour les capteurs.

Les avantages de l'utilisation de ce capteur sont nombreux:

  • Membrane en Titane soudée au raccord de pression fileté en Titane également, donc aucun joint torique
  • Haute précision
  • Haute résistance en surpression (pression d'épreuve) et aux gradients de pression
  • Excellente résistance chimique
  • Stabilité aux températures élevées
  • Haute sensibilité, de 10mV/V à 20mV/V
  • Plages de pression comprises entre -1 bar et 5.000 bar
  • Réalisation à partir de pièces en Titane usinées
  • Gamme HP haute pression usinée à partir d'une seule pièce en Titane